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項(xiàng)目研制
項(xiàng)目研制
磁場(chǎng)輔助批量化拋光設(shè)備
時(shí)間：2025-07-21

該系列設(shè)備為高精度批量化拋光設(shè)計(jì)的智能化設(shè)備，適用于金屬制樣、異形金屬工件(醫(yī)療器械、模具、高端刀具)及小型光學(xué)玻璃元件的表面處理。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì),集成智能控制系統(tǒng)與磁場(chǎng)輔助批量化拋光工藝,滿足實(shí)驗(yàn)室及加工車間的高效、高精度需求。

【設(shè)備亮點(diǎn)】

1.創(chuàng)新技術(shù)

※可實(shí)現(xiàn)曲面元件批量拋光且同步達(dá)到納米級(jí)表面粗糙度與微米級(jí)保形精度的技術(shù)。

※可同時(shí)拋光幾十甚至數(shù)百件工件。

2.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

※用于金屬制樣、醫(yī)療器械(手術(shù)器械/植入物)、高端刀具(硬質(zhì)合金刀具)、光學(xué)元件(鏡片/光學(xué)模具)、航空航天、半導(dǎo)體及奢侈品制造等高端領(lǐng)域。

※根據(jù)客戶的具體需求提供定制化方案。